Baru-baru ini, Zyvex Labs, sebuah perusahaan nanoteknologi yang memproduksi alat pada tingkat atom di Amerika Serikat, mengumumkan bahwa perusahaan tersebut menggunakan teknologi litografi berkas elektron untuk mencapai pembuatan chip 0.7nm.Begitu berita itu keluar, itu menarik perhatian luas.Sebagai "sumber kehidupan" chip proses canggih, mesin litografi EUV sekarang "sulit ditemukan". Data IC Knowledge menunjukkan bahwa, Show
 Baru-baru ini, Zyvex Labs, sebuah perusahaan nanoteknologi yang memproduksi alat pada tingkat atom di Amerika Serikat, mengumumkan bahwa perusahaan tersebut menggunakan teknologi litografi berkas elektron untuk mencapai pembuatan chip 0.7nm.Begitu berita itu keluar, itu menarik perhatian luas.Sebagai "sumber kehidupan" chip proses canggih, mesin litografi EUV sekarang "sulit ditemukan". Data IC Knowledge menunjukkan bahwa permintaan alat litografi EUV di pasar proses lanjutan akan terus meningkat dari tahun 2022 hingga 2024, tetapi kapasitas produksi ASML sangat tidak mencukupi.Setidaknya selama 2022 tahun ke depan, chip proses lanjutan akan terpengaruh oleh kapasitas mesin litografi EUV yang tidak mencukupi. Selain secara aktif melacak proses pengembangan mesin litografi EUV, produsen chip juga mencari teknologi yang dapat menggantikan mesin litografi EUV.Bukan hanya litografi berkas elektron yang memiliki harapan tinggi.Kioxia mendorong proses pencetakan NIL, mengklaim bahwa itu diharapkan untuk mencapai proses 2025nm pada tahun 5; TSMC juga menggunakan litografi DUV untuk mencapai proses 7nm, dan mengklaim bahwa litografi DUV dapat dan juga dapat mencapai proses 5nm. Sinar elektron untuk menggantikan mesin litografi EUV?terlalu lambat! Tidak seperti mesin litografi yang menggunakan sumber cahaya, litografi berkas elektron menggunakan sumber elektron.Zhang Rongzhu, seorang profesor di Universitas Sichuan, memperkenalkan kepada reporter "China Electronics News" bahwa litografi berkas elektron, juga dikenal sebagai penulisan langsung berkas elektron, menggunakan berkas elektron untuk membombardir resistan elektronik, dan resistan yang disinari oleh elektron mengalami reorganisasi rantai molekul. , dengan demikian Tinggalkan jejak yang sesuai.Arah gerak berkas elektron dapat dikontrol dengan menggunakan medan elektromagnetik, kemudian lintasan berkas elektron yang tertulis pada resistor dapat diubah, sehingga dapat diperoleh informasi pola yang diperlukan pada substrat. Kapasitas produksi mesin litografi EUV yang tidak mencukupi sebagian besar disebabkan oleh pasokan lensa optik yang tidak mencukupi.Zeiss adalah satu-satunya pemasok lensa litografi EUV, dan sulit bagi perusahaan baru untuk mematahkan monopoli Zeiss di bidang lensa litografi EUV dalam waktu singkat, dan Zeiss sendiri tidak dapat memenuhi permintaan pasar yang besar saat ini.Karena litografi berkas elektron menggunakan sumber elektron untuk memancarkan berkas elektron alih-alih sumber cahaya, teknologi litografi berkas elektron dapat secara efektif menghilangkan ketergantungan mesin litografi pada lensa optik, yang telah menjadi salah satu alasan utama perhatian berkas elektron. . Selain itu, Mo Dakang, seorang pakar industri, memperkenalkan kepada reporter "China Electronics News" bahwa berkas elektron memiliki keuntungan dari panjang gelombang pendek. Semakin pendek panjang gelombang, semakin tepat sirkuit yang dapat diukir, dan jumlah nanometer dari proses chip juga bisa lebih kecil.Dapat dipahami bahwa panjang gelombang mesin litografi EUV adalah 13.5nm, sedangkan panjang gelombang berkas elektron 100KeV hanya 0.004nm.Teknologi proses canggih yang tidak dapat dicapai. Perusahaan AS Zyvex menggunakan litografi berkas elektron untuk membuat chip 0.7nm Meskipun litografi berkas elektron memiliki harapan yang tinggi, masih sulit untuk mencapai produksi massal dalam jangka pendek.Faktanya, pada awal tahun 2000, American Applied Materials mengakuisisi sebuah perusahaan yang mengkhususkan diri dalam Sistem ETEC berkas elektron, yang mengkhususkan diri dalam teknologi litografi berkas elektron, tetapi sampai sekarang, masih gagal untuk mencapai produksi massal chip proses canggih menggunakan teknologi berkas elektron.Menurut Mo Dakang, kelemahan terbesar dari litografi berkas elektron adalah kecepatan paparan berkas elektron terlalu lambat, membutuhkan waktu 10 menit untuk mengekspos satu wafer silikon, sedangkan kecepatan paparan EUV dapat mencapai lebih dari 2 wafer silikon per menit.Oleh karena itu, teknologi yang menggunakan litografi berkas elektron saat ini terbatas pada penelitian laboratorium, atau pembuatan chip dengan pengiriman skala kecil seperti chip mesin pertambangan.Namun, bukan berarti teknologi berkas elektron tidak dapat digunakan dalam skala besar di bidang proses manufaktur lanjutan dalam jangka pendek. Karena panjang gelombang yang pendek, berkas elektron memiliki keunggulan alami dalam pengukuran lebar jalur. Oleh karena itu, menggunakan berkas elektron teknologi untuk pengukuran lebar garis dapat mengurangi kesalahan. NIL Imprint Ingin mencapai deviasi nol?terlalu sulit! Selain e-beam, pencetakan NIL juga dianggap sebagai teknologi kunci untuk menggantikan litografi EUV untuk mencapai proses di bawah 7nm. Proses pencetakan NIL adalah mengukir pola sirkuit nano pada cetakan terlebih dahulu, dan kemudian "mencetak" pola sirkuit pada wafer seperti stempel.Pada saat yang sama, karena NIL menggunakan replikasi mekanis, pengaruh difraksi optik dapat dikecualikan Secara teori, resolusi yang lebih tinggi daripada litografi dapat dicapai, dan biayanya jauh lebih rendah daripada EUV.Selain itu, teknologi pencetakan NIL juga tidak memerlukan penggunaan lensa canggih seperti mesin litografi EUV.Banyak keuntungan telah membuat proses pencetakan NIL sama-sama populer dalam beberapa tahun terakhir.Zhang Rongzhu memperkenalkan kepada reporter "China Electronics News" bahwa NIL adalah solusi persiapan struktur mikro yang relatif ekonomis, dan memiliki keunggulan nyata dalam persiapan perangkat struktur mikro dengan struktur yang relatif sulit dan siklus produksi yang singkat. Perbandingan Litografi EUV dan Teknologi Pencetakan NIL Sumber data: DIGITIMES Dapat dipahami bahwa Kioxia Jepang telah bekerja sama dengan perusahaan seperti Canon untuk mengembangkan teknologi pencetakan NIL sejak 2017.Saat ini, Kioxia telah menerapkan teknologi NIL pada memori flash NAND 15nm, dan diperkirakan akan meluncurkan chip 2025nm menggunakan teknologi NIL pada tahun 5.Kioxia mengatakan bahwa dibandingkan dengan EUV, peralatan NIL dapat mengurangi konsumsi energi hingga 90%, sementara tingkat konversi lebih baik, dan biaya peralatan NIL lebih rendah, dan biaya R&D 60% lebih rendah daripada EUV. Namun, pemrosesan cetakan dan bahan juga menghambat aplikasi skala besar teknologi pencetakan NIL.Zhang Rongzhu mengatakan bahwa inti dari teknologi pencetakan NIL terletak pada pencetakan cetakan. Untuk mendapatkan akurasi pemesinan tingkat litografi EUV, ukuran struktural cetakan itu sendiri akan lebih kecil. Jika Anda ingin mencapai pemrosesan cetakan berkualitas tinggi dalam kondisi ini , koefisien kesulitan Sama tinggi.Selain itu, karena stamping NIL menggunakan skema cetakan kontak mekanis, sedikit penyimpangan dalam proses kontak dan pemisahan antara photoresist dan cetakan akan mempengaruhi kualitas struktur mikro secara keseluruhan, yang sangat menuntut material photoresist.Namun, dalam persiapan struktur kompleks di bawah 10 nm, juga sangat sulit untuk mencapai penyimpangan nol. Mesin litografi ASML Biarkan DUV menggantikan EUV untuk mencapai proses di bawah 7nm?terlalu mahal! Sebelumnya, TSMC memproduksi secara massal chip 7nm generasi pertama menggunakan mesin litografi DUV, dan juga menyatakan bahwa mesin litografi DUV juga dapat memproduksi chip 5nm secara massal.Hal ini juga membuat orang menyadari bahwa meskipun panjang gelombang teknologi litografi DUV lebih panjang, bukan tidak mungkin untuk mencapai proses di bawah 7nm melalui teknologi litografi DUV. Zhang Rongzhu mengatakan bahwa karena energi foton DUV relatif kecil, ini lebih mudah daripada EUV dalam hal pemilihan material, pemrosesan cermin, dan desain jalur optik.Dalam proses di bawah 7nm, teknologi eksposur multi-layer juga dapat dicapai.Oleh karena itu, teknologi litografi DUV juga menarik banyak perhatian di bidang proses lanjutan. Namun, tidak mudah untuk mencapai proses di bawah 7nm dengan teknologi DUV.Mo Dakang mengatakan bahwa meskipun teknologi paparan multi-lapisan dari banyak produsen relatif matang, biaya chip juga akan meningkat setelah proses manufaktur ditambahkan, yang juga membuat chip proses canggih yang dibuat oleh teknologi DUV, dan produksi teknologi EUV. Dibandingkan dengan chip, ia kehilangan keunggulan harga.Inilah sebabnya mengapa TSMC menggunakan litografi EUV alih-alih litografi DUV dalam chip proses lanjutan 7nm dan 5nm saat ini. Munculnya teknologi baru telah memberi pencerahan bagi mereka yang menderita karena mesin litografi yang "sulit ditemukan".Namun, butuh waktu untuk merealisasikan penggantian mesin litografi EUV. “Secara umum, setiap solusi memiliki kelebihannya sendiri, tetapi dari perspektif sistem, itu hanya mentransfer kesulitan dari satu aspek ke aspek lain. Jika suatu teknologi ingin menggantikan EUV, tidak kalah sulitnya dengan mengembangkan sistem Litografi ultraviolet ekstrem. Oleh karena itu, , itu mungkin pilihan terbaik untuk mewujudkan industrialisasi skala besar dari chip proses canggih dengan memungkinkan beberapa skema berbeda untuk bekerja sama satu sama lain alih-alih mengganti satu sama lain, dan menggunakan skema persiapan yang berbeda untuk proses yang berbeda. Mesin litografi EUV akan segera berakhir? ASML tidak optimis TSMC memperkenalkan mesin litografi EUV paling canggih, siapa yang harus khawatir? Pengarang: Shen Cong Editor Zhao Chen Editor Kecantikan丨Maria Produser Lian Xiaodong
Manufaktur adalah tulang punggung banyak komunitas Minnesota dan memainkan peran penting dalam kehidupan orang. Sorotan manufaktur MinnesotaMinnesota memiliki lebih dari 8.300 produsen yang membuat berbagai produk. Manufaktur tumbuh di Minnesota - dengan pekerjaan di sektor ini meningkat lebih dari 11 persen sejak 2010. Manufaktur mewakili komponen sektor swasta tunggal terbesar dari PDB Minnesota dengan total $ 49,2 miliar atau 16% dari total PDB Minnesota pada tahun 2017. 319.000 Minnesotans bekerja di bidang manufaktur, akuntansi & nbsp; 13 persen pekerjaan sektor swasta di negara bagian. Upah di bidang manufaktur membentuk 15 persen dari semua upah yang dibayarkan di Minnesota. Dibuat di Minnesota42% dari perusahaan Fortune 500 Minnesota berada di manufaktur. Berkantor pusat di Minnesota adalah 17 perusahaan Fortune 500 serta Cargill, perusahaan swasta terbesar di negara ini. Fortune 500 dengan operasi manufaktur utama termasuk CHS, 3M, General Mills, Ecolab, Land O'Lakes, Hormel Foods, Mosaic dan St. Jude Medical. Minnesota juga merupakan tempat yang tepat untuk produsen kecil, dengan modal ventura, insentif, dan pembiayaan lainnya yang tersedia. Negara bagian peringkat di 20 teratas secara nasional dengan hampir $ 1 miliar dalam investasi modal ventura dari 2013-2015. Minnesota mengekspor $ 120 miliar barang manufaktur pada tahun 2015. Perusahaan -perusahaan ini mengirim 1.057 jenis produk yang berbeda ke lebih dari 200 negara di seluruh dunia. Untuk informasi lebih lanjut tentang produk yang dibuat di Minnesota, kunjungi Departemen Ketenagakerjaan dan Pengembangan Ekonomi Minnesota (akta) di database Minnesota Memproduksi kerja kerasAkun manufaktur Minnesota secara langsung atau tidak langsung untuk 1.023.785 pekerjaan. Setiap pekerjaan manufaktur mendukung 1,9 pekerjaan di sektor ekonomi lain. Secara total, 33 persen dari semua pekerjaan Minnesota ada di, atau didukung, oleh manufaktur. Ada lebih dari 10.100 pekerjaan manufaktur terbuka di Minnesota hari ini. Ingin mempelajari lebih lanjut tentang pembuatan di daerah Anda?dari Wikipedia, ensiklopedia gratis Lompat ke navigasi melompat untuk mencari Promed Product Product SubkategoriKategori ini memiliki 6 subkategori berikut, dari total 6.
D
G
M
Halaman dalam kategori "perusahaan manufaktur yang berbasis di Minnesota"49 halaman berikut berada dalam kategori ini, dari total 49. Daftar ini mungkin tidak mencerminkan perubahan terbaru. 0–9
SEBUAH
B
C
D
M
Halaman dalam kategori "perusahaan manufaktur yang berbasis di Minnesota"
G
Produsen kendaraan bermotor yang berbasis di Minnesota (2 C, 8 p)
M
SEBUAH
Pembuatan Sepeda Amerika
Boveda (Perusahaan)
Pesawat Cirrus
Kontrol Data Corporation
E
General Mills
Global Electric Motorcars
Magnepan Penelitian Magnum
Perusahaan besar apa yang ada di Minnesota?100 perusahaan terbesar terbaik untuk bekerja di Minnesota.. Aeon.Skor Zippia 3.9.Deskripsi Perusahaan: ... . Target.Skor Zippia 4.7.Sorotan Perusahaan: .... Siemens.Skor Zippia 4.8..... UnitedHealth Group.Skor Zippia 4.6..... Grup ACS.Skor Zippia 4.4..... Cargill.Skor Zippia 4.8..... Medtronic.Skor Zippia 4.9..... Pembelian terbaik.Skor Zippia 4.7 .. Pabrik apa yang ada di Minnesota?Dibuat di Minnesota yang berkantor pusat di Minnesota adalah 17 perusahaan Fortune 500 serta Cargill, perusahaan swasta terbesar di negara ini.Fortune 500 dengan operasi manufaktur utama termasuk CHS, 3M, General Mills, Ecolab, Land O'Lakes, Hormel Foods, Mosaic dan St.Jude Medical.CHS, 3M, General Mills, Ecolab, Land O'Lakes, Hormel Foods, Mosaic and St. Jude Medical.
Apa saja industri teratas di Minnesota?Industri utama.. Manufaktur lanjutan .. Memimpin ilmu kehidupan .. Teknologi Bersih & Energi Terbarukan .. Pangan & Pertanian .. Apa perusahaan terkaya di Minnesota?Pada tahun 2021, perusahaan terkemuka yang diperdagangkan secara publik dengan kantor pusat di Minnesota adalah UnitedHealth Group.UnitedHealth Group. |
100 perusahaan manufaktur teratas di minnesota 2022
Pos Terkait
Copyright © 2024 apacode Inc.
